پایان نامه

 

مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و SolدرGel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب تحت pdf دارای 4 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و SolدرGel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب تحت pdf کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و SolدرGel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب تحت pdf ،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

---

بخشی از متن مقاله اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و SolدرGel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب تحت pdf :

سال انتشار: 1385

محل انتشار: هشتمین کنفرانس ماده چگال

تعداد صفحات: 4

چکیده:

با استفاده از فرآیند Sol-Gel و با روش لایه نشانی غوطه وری، پوشش های ضد بازتاب SiO2 بر روی بستر لام میکروسکوپ تهی بررسی UV-Vis شدند . سپس اثر عوامل سرعت کشش، دمای عملیات حرارتی و مدت زمان پیرشدگی بر روی طیف عبوری نمونه های تهیه شده، در محدوده شد . افزایش سرعت کشش و نیز افزایش دمای عملیات حرارتی، موجب کاهش میزان عبور نور شد . زمان پیرشدگی سل، اثر قابل توجهی بر روی میزان عبور نداشت که حاکی از پایداری محلول سل می باشد . برای بررسی ساختار سطحی لایه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی از سطح نمونه ها تصویرSEM تهره شد.

 

کلمات کلیدی :